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名称:微波等离子体化学气相沉积;microwave plasma chemical vapor deposition;MWPCVD
      用微波等离子体激活化学反应,进行气相沉积的技术。微波等离子体增强了气体反应活性,加速气相分解反应和表面原子的迁移,使沉积过程可以在较低生长温度下进行。常用设备在一低压化学气相沉积(CVD)反应管上交叉安装一共振腔和与之匹配的微波发射器。在CVD反应管中被共振腔包围气体可通过微波作用形成等离子体,微波频率通常为2.45GHz,发射功率通常在几百瓦至1kW以上。该方法对于低熔点和高温下不稳定的化合物的薄膜生长更为合适。

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